流化床—粉體碳納米管生長設備 流化床—化學氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設備，該設備包括有：自動加液裝置、超聲波霧化發生裝置、氣體供應裝置、氣體流量控制裝置、三溫區流化床反應器及加熱裝置、旋風分離器、固體收集裝置、凈化處理裝置。

碳納米線生長設備 公司研制的連續碳納米管、納米線生長專用設備。由氣流控制系統、液體注入系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。生長爐的最高溫度1400℃，并可在0-1400℃之間連續可調，垂直式分布熱場，兩點控溫，設備頂部設有注液口、導流器。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現連續生長不間斷的特點，是碳納米管或膜產業化的重大突破。

碳納米纖維膜系統 1.集高溫場、設計的薄膜采集系統及液態碳源調控系統于一體 2.采取液態碳源的方式 3.高溫區進行裂解 4.most終沉積后端收集系統的成膜區，形成碳納米管薄膜 5.可被應用于眾多光電領域。